Filmes fluorescentes baseados em derivados de dansila foram preparados a partir de duas metodologias diferentes. Em uma delas, a superfície de um eletrodo de óxido de índio dopado com estanho (ITO) foi coberta com um filme de quitosana e o polímero foi posteriormente derivatizado com cloreto de dansila, enquanto que na outra metodologia, um filme de dansilglicina foi depositado eletroquimicamente sobre ITO. A técnica de microscopia de força atômica (AFM) foi usada para mapear a superfície dos filmes. A comparação das propriedades eletroquímicas, fotoquímicas e morfológicas destes filmes indicou que o filme de dansilglicina depositado eletroquimicamente sobre ITO apresentou resposta eletroquímica, nível de fluorescência mais intenso, maior rugosidade superficial e maior área superficial relativa em comparação com o seu homólogo quitosana-cloreto de dansila. Esse comportamento pode ser atribuído ao maior número de sítios ativos presentes na estrutura bem organizada do filme eletrodepositado em comparação com os filmes produzidos quimicamente

Dansyl-based fluorescent films were prepared by two different methods. In one of them, the surface of an indium tin oxide (ITO) electrode was coated with a film of chitosan and the polymer subsequently derivatized with dansyl chloride, whilst in the second method a film of dansylglycine was electrochemically deposited on the ITO surface. Atomic force microscopy (AFM) was employed to map the surfaces of the films. Comparison of the morphological, photochemical and electrochemical properties of these films indicated that the dansylglycine film electrodeposited on ITO exhibited electrochemical response, emitted a higher level of fluorescence, presented greater surface roughness and larger relative surface area in comparison with its dansyl chloride-chitosan counterpart. This behavior can be attributed to the higher number of active sites present in the well-organized and rough structure of the electrodeposited film in comparison with the chemically produced films